Introduction
中国真空学会第六届三次理事会暨2008学术年会拟于2008年10月17日－20日在云南省昆明市召开。本次学术交流会主题是“科技创新、促进真空科技事业发展”。依照国际真空科学与技术联盟的会议安排方式，大会将设一个主会场和八个分会场。这八个分会场分别是：1、真空科学与技术、2、真空冶金与工程；3、表面科学与技术；4、纳米科学与技术；5、薄膜科学与技术；6、电子材料与器件；7、等离子体科学与技术；8、应用表面科学与技术。
Call for paper
Important date
2008-08-30
Abstract submission deadline
2008-10-18
Draft paper submission deadline
Submission Topics
征文范围：
1. 真空科学与技术、真空冷冻与保鲜；
2. 表面科学与技术、应用表面科学与技术；
3. 纳米科学与技术；
4. 薄膜生长机理、制备技术和应用；
5. 真空获得与测量、质谱分析与检漏；
6. 真空冶金与表面工程；
7. 电子材料与器件、真空微电子学；
8. 等离子体物理与技术；
9. 显示技术；
10.其它相关科学技术。
All Comments
Important Date
-
Conference Date
Oct 17
2008
toOct 20
2008
-
Aug 30 2008
Abstract Submission Deadline
-
Oct 18 2008
Draft paper submission deadline
-
Oct 20 2008
Registration deadline
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