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Introduction

全国分子束外延学术会议是每两年举办一次的全国性学术会议。会议的宗旨是展示我国在分子束外延（MBE）及其相关领域的新进展、新动态、新成果，交流和探讨我国分子束外延发展中存在的问题和未来的发展方向，拓宽分子束外延的应用领域，为我国从事分子束外延技术以及相关材料和器件研究的科研人员提供相互了解和交流的机会，同时也为分子束外延相关的上下游产业提供信息沟通和宣传的渠道，从而促进我国分子束外延技术及其相关领域科学技术的发展。 本次会议“第十一届全国分子束外延学术会议”由中国有色金属学会半导体材料学术委员会和中国电子学会电子材料分会共同主办，中国科学院上海技术物理研究所和中国科学院红外成像材料与器件重点实验室承办。会议拟定于 2015 年 8月中下旬初定在成都召开。会议将邀请国内外MBE领域著名专家学者作专题学术报告，组织国内外同行的大会和分组报告。

Call for paper

Important date

2015-05-15
Draft paper submission deadline

Submission Topics

征文范围： 1、分子束外延基础理论与技术 2、低维材料生长、分析 3、IV族外延材料生长、分析 4、III-V族外延材料生长及相关器件 5、II-VI族外延材料生长及相关器件 6、稀磁半导体、氧化物、拓扑绝缘体及其它新型材料 7、太赫兹材料与器件 8、氮化物及宽禁带半导体 9、分子束外延的批量生产 征文要求： 1、 论文要求反映国内外最新研究动态和成果，重点突出、层次分明、论述严谨、数据真实，且未在国内外公开刊物或其他学术会议上发表。 2、 论文可先投摘要，待审定录用后再投全文。论文摘要需注明论文题目、作者姓名、单位、通讯地址、主要结果等。论文编辑采用A4页面，标题用三号黑体，作者用四号字，其余用五号字，除标题外字体统一用宋体，包括图标在内每篇论文摘要不超过2个页面。会议统一接受电子PDF文档。 3、 论文请以电子邮件附件形式发送到会议投稿信箱： 联系人：陈建新、陈路 E-mail：MBE2015@mail.sitp.ac.cn
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  • Aug 21

    2015

    Conference Date

  • May 15 2015

    Draft paper submission deadline

  • Aug 21 2015

    Registration deadline

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中国科学院红外成像材料与器件重点实验室
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