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Introduction
由哈尔滨工业大学、北京大学和美国代顿大学(University of Dayton，USA)共同主办，美国光学学会（OSA），中国光学学会（COS），中国国家自然科学基金委员会协办的2009年纳米光子学国际会议将于2009年5月11日至5月14日在中国哈尔滨友谊宫宾馆举行。 纳米制造技术是21世纪的关键技术之一，基于纳米制造技术的微纳结构在集成电路、光波导、生物光子学等方面都有很大的应用前景，将引起光子技术的巨大进步。
Call for paper

Important date

2009-02-16
Abstract submission deadline
2009-04-20
Draft paper submission deadline

Submission Topics

会议主题 材料与器件专题 分子结构：聚合物、液晶、超分子 半导体：量子点、纳米棒、异质结构 光子晶体：色散关系调控及应用、滤波器、非线性光学、光子器件 等离子体激元：纳米粒子、纳米壳、多层透明金属 异向介质：纳米复合材料、手性介质、源和探测器 纳米加工技术专题 新型纳米加工技术 纳米压印技术 自组装 激光直写 干涉光刻 化学生长 刻蚀技术 纳米光学成像和纳米表征专题 新型纳米尺度光学成像设计 近场扫描光学成像 等离子体分辨增强 超分辨技术 应用专题 纳米光子学在能源方面的应用 纳米光子学在传感器方
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Important Date

  • Conference Date

    May 11

    2009

    to

    May 14

    2009

  • Feb 16 2009

    Abstract Submission Deadline

  • Apr 20 2009

    Draft paper submission deadline

  • May 14 2009

    Registration deadline

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哈尔滨工业大学
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